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差距在縮短 從落后20年到落后3年 華虹半導(dǎo)體經(jīng)歷了什么?

2019-06-03
關(guān)鍵詞: 半導(dǎo)體 晶圓 SMIC

  國(guó)內(nèi)的晶圓代工廠中,SMIC中芯國(guó)際是規(guī)模最大、技術(shù)最先進(jìn)的,在他們之外還有上海華虹半導(dǎo)體,主要代工特種工藝,不過(guò)近年來(lái)該公司也投資建設(shè)了華虹六廠、華虹七廠,進(jìn)軍先進(jìn)半導(dǎo)體工藝代工。在被業(yè)界認(rèn)為市場(chǎng)不太景氣的“艱難”一年里,華虹半導(dǎo)體卻交出了一份不錯(cuò)的成績(jī)單。

  華虹λ于無(wú)錫的七廠今年2季度就要搬入設(shè)備,4季度正式量產(chǎn)。先進(jìn)工藝方面,華虹將為聯(lián)發(fā)科代工28nm HKC+低功耗無(wú)線通訊芯片,預(yù)計(jì)2020年量產(chǎn)14nm FinFET工藝。

  2018年4月3日,華虹集團(tuán)宣布λ于無(wú)錫的華虹半導(dǎo)體七廠開(kāi)工。據(jù)了解,華虹無(wú)錫集成電·研發(fā)和制造基地項(xiàng)目占地約700畝,總投資100億美元,一期項(xiàng)目總投資約25億美元,新建一條工藝等級(jí)90-65納米、月產(chǎn)能約4萬(wàn)片的12英寸特色工藝集成電·生產(chǎn)線,支持5G和物聯(lián)網(wǎng)等新興領(lǐng)域的應(yīng)用。華虹無(wú)錫基地項(xiàng)目將分期建設(shè)數(shù)條12英寸集成電·生產(chǎn)線。首期項(xiàng)目實(shí)施后,將適時(shí)啟動(dòng)第二條生產(chǎn)線建設(shè)。

  華虹半導(dǎo)體(無(wú)錫)有限公司一期工程計(jì)劃將于2019年上半年完成土建施工,下半年完成凈化廠房建設(shè)和動(dòng)力機(jī)電設(shè)備安裝、通線并逐步實(shí)現(xiàn)達(dá)產(chǎn),預(yù)計(jì)年產(chǎn)值將達(dá)50億元。

  經(jīng)過(guò)一年的建設(shè),華虹方面日前宣布無(wú)錫的華虹七廠將在2季度搬入機(jī)臺(tái)設(shè)備,預(yù)計(jì)4季度正式開(kāi)始量產(chǎn)12英寸晶圓,華虹旗下的研發(fā)、工程及銷(xiāo)售團(tuán)隊(duì)正在為此做準(zhǔn)備。

  在先進(jìn)工藝方面,華虹早前宣布今年將量產(chǎn)28nm HKC+工藝,首發(fā)合作伙伴是聯(lián)發(fā)科,將為后者代工28nm低功耗無(wú)線通訊芯片。

  在28nm工藝之后,華虹將在2020年量產(chǎn)14nm FinFET工藝,這個(gè)時(shí)間點(diǎn)比中芯國(guó)際量產(chǎn)14nm工藝略微落后,后者在日前的財(cái)報(bào)會(huì)議上提到了他們的工藝進(jìn)展,今年就能量產(chǎn)14nm改進(jìn)型的12nm工藝了——“FinFET 研發(fā)進(jìn)展順利,12nm 工藝開(kāi)發(fā)進(jìn)入客戶(hù)導(dǎo)入階段,下一代 FinFET 研發(fā)在過(guò)去積累的基礎(chǔ)上進(jìn)度喜人。”

  到了2020年,不考慮臺(tái)積電已經(jīng)在南京量產(chǎn)的16nm工藝,國(guó)內(nèi)廠商中至少有兩家會(huì)量產(chǎn)14nm FinFET工藝,雖然比臺(tái)積電、三星、Intel等公司的7nm、5nm工藝還要落后兩三代,但在技術(shù)水平上國(guó)內(nèi)晶圓廠可以說(shuō)也追到一流水平了,14nm是高性能工藝節(jié)點(diǎn),δ來(lái)會(huì)長(zhǎng)期存在,市場(chǎng)前景廣闊。


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