據韓國媒體 BusinessKorea 上周報道,韓國本土企業在 EUV 光刻技術方面取得了極大進展。但并沒有提到是哪一家企業,合理推測應指代韓國整個半導體光刻產業。

韓國知識產權局(KIPO)發布的《過去10年(2011-2020年)專利申請報告》顯示,2014年,向韓國知識產權局(KIPO)提交的與EUV光刻相關的專利申請數量達到88件的峰值,2018年達到55件,2019年達到50件。

特別是,韓國公司正在迅速縮小其在極紫外光刻技術上與外國公司的差距。2019年,韓國本土提出的專利申請數量為40件,超過了國外企業的10件。這是韓國提交的專利申請首次超過國外。2020年,韓國提交的申請數量也是國外的兩倍多。

過去10年,包括三星電子在內的全球企業進行了密集的研發,以確保技術領先地位。最近,代工公司開始使用5nm EUV光刻技術來生產智能手機的應用處理器。

從公司來看,全球六大公司的專利申請數占了總數的59%,卡爾蔡司(德國)18%,三星電子(韓國)15%,ASML(荷蘭)11%,S&S Tech(韓國)8%,臺積電(中國臺灣)6%,SK海力士(韓國)1%。

從具體技術項目看,工藝技術申請專利占32%,曝光裝置技術申請專利占31%,掩膜技術申請專利占28%,其他申請專利占9%。在工藝技術領域,三星電子占39%,臺積電占15%。在光罩領域,S&S科技占28%,Hoya(日本)占15%,漢陽大學(韓國)占10%,朝日玻璃(日本)占10%,三星電子占9%。