中科院網(wǎng)站消息中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所信息光學(xué)與光電技術(shù)實驗室提出一種基于虛擬邊（Virtual Edge）與雙采樣率像素化掩模圖形（Mask pixelation with two－phase sampling）的快速光學(xué)鄰近效應(yīng)修正技術(shù)（Optical proximity correction，OPC），仿真結(jié)果表明該技術(shù)具有較高的修正效率。
OPC技術(shù)通過調(diào)整掩模圖形的透過率分布修正光學(xué)鄰近效應(yīng)，從而提高成像質(zhì)量。基于模型的OPC技術(shù)是實現(xiàn)90nm及以下技術(shù)節(jié)點集成電路制造的關(guān)鍵計算光刻技術(shù)之一。
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