12月14日消息，CNBC 報(bào)道稱(chēng)，全球最先 進(jìn)的光刻機(jī)廠商荷蘭AMSL公司正在開(kāi)發(fā)一種新版本的EUV光刻機(jī)，將成為世界上最先 進(jìn)的芯片制造設(shè)備。中國(guó)現(xiàn)在連EUV光刻機(jī)都買(mǎi)不到，所以，對(duì)于這種更新型的光刻機(jī)，更要警惕。

這種光刻機(jī)被稱(chēng)為 High NA（高數(shù)值孔徑）。據(jù)稱(chēng)，第一臺(tái)高 NA 機(jī)器仍在開(kāi)發(fā)中，預(yù)計(jì)從 2023 年開(kāi)始提供先行體驗(yàn)，以便芯片制造商可以更快地開(kāi)始驗(yàn)證并學(xué)會(huì)如何使用。然后，客戶(hù)可以在 2024 年和 2025 年將以此進(jìn)行自己的研發(fā)工作。從 2025 年開(kāi)始，它們很可能用于大批量制造。

這種NA光刻機(jī)可以讓芯片制造商研制出更復(fù)雜的芯片。光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。EUV光刻機(jī)如今名氣巨大，其實(shí)推出時(shí)間并不長(zhǎng)。

NV光刻機(jī)還沒(méi)問(wèn)世，就已被全球各芯片廠盯著。今年 7 月，英特爾首席執(zhí)行官表示，該公司有望成為 ASML 新機(jī)器的第一個(gè)接收者。

而2018年4月，中芯國(guó)際向阿斯麥下單了一臺(tái)EUV（極紫外線）光刻機(jī)，按理于2019年初交貨，卻迄今未收到貨，因?yàn)槊绹?guó)為了限制荷蘭ASML公司向中國(guó)公司出口極紫外光刻機(jī)（EUV），對(duì)荷蘭屢次施壓。  最終，荷蘭不再續(xù)簽 ASML 的出口許可。而中國(guó)則是 ASML 公司的第二大客戶(hù)，占其營(yíng)業(yè)總收入的 20%，ASML也希望能增加其在華的銷(xiāo)量。

假如幾年之后ASML公司推出更新型的光刻機(jī)，那中國(guó)和國(guó)外的芯片代工能力的差距有可能進(jìn)一步拉大。