眾所周知，全球能夠生產(chǎn)芯片光刻機(jī)的廠商只有四家，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，中國的上海微電子。

其中ASML的技術(shù)最強(qiáng)，是唯一能夠和生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商，目前精度已經(jīng)支持到3nm。接著是尼康，其浸潤式光刻機(jī)，分辨率可達(dá)到7nm及以下。

再是佳能，其干式光刻機(jī)，可實(shí)現(xiàn)55nm及以上的分辨率，上海微電子也是干式光刻機(jī)，分辨率標(biāo)注為90nm。

不過近日，有網(wǎng)友表示，全球第五家光刻機(jī)廠商誕生了，并且還是一家中國大陸的廠商，一時(shí)之間讓大家興奮不已，畢竟目前在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域，我們最落后的就是光刻機(jī)了，有了突破必須興奮啊。

這家廠商叫大族激光，是國內(nèi)頂尖的激光設(shè)備龍頭，在全球激光設(shè)備企業(yè)中，Trumpf營收、利潤規(guī)模第一，大族激光營收、利潤規(guī)模排名第二。

大族激光在互動(dòng)平臺(tái)中表示，公司的光刻機(jī)項(xiàng)目主要應(yīng)用在分立器件領(lǐng)域，分辨率3－5μm；其中，接近式光刻機(jī)已投入市場，步進(jìn)式光刻機(jī)已啟動(dòng)用戶優(yōu)化。

這基本上就證實(shí)了大族激光擁有自己的光刻機(jī)，所以網(wǎng)友們當(dāng)然很興奮了， 雖然接近式（也稱接觸式）、步進(jìn)式光刻機(jī)技術(shù)相對于上海微電子還比較落后，但也是光刻機(jī)啊。

我們先說一個(gè)技術(shù)上的常識(shí)，光刻機(jī)在曝光方式上可以分為三類：接觸式光刻機(jī)、接近式光刻機(jī)和投影式光刻機(jī)。

像前面提到ASML、尼康、佳能、上海微電子這四大，均使用的是投影式光刻機(jī)，目前已經(jīng)第4代。

但其實(shí)目前像能夠生產(chǎn)接觸式、步進(jìn)式光刻機(jī)的廠商還有很多，這些分別是第一、二代光刻機(jī)。只是這些光刻機(jī)，生產(chǎn)的芯片工藝很是成熟，大多都是μm級別，達(dá)不到nm工藝，所以大家習(xí)慣性的不說這些光刻機(jī)。

故，大族激光也表示，自己的光刻機(jī)項(xiàng)目主要應(yīng)用在分立器件領(lǐng)域，分辨率為3－5μm。所以這種光刻機(jī)，并不是大家想的能夠制造高端芯片的光刻機(jī)，也并不是當(dāng)前的主流芯片制造的光刻機(jī)，大家不必太激動(dòng)。

當(dāng)然，任何技術(shù)都是從低端開始的，大族激光雖然現(xiàn)在只能夠生產(chǎn)接觸式、接近式光刻機(jī)，說不定后續(xù)也能夠生產(chǎn)浸潤式、EUV光刻機(jī)呢，所以我們還是可以報(bào)以極大的期待的。

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