5 月 30 日消息，隨著 DRAM 小型化的不斷推進(jìn)，SK 海力士、三星電子等公司正在致力于新材料的開發(fā)和應(yīng)用。
據(jù) TheElec，SK Hynix 計(jì)劃在第 6 代（1c 工藝，約 10nm）DRAM 的生產(chǎn)中使用 Inpria 下一代金屬氧化物光刻膠（MOR），這是 MOR 首次應(yīng)用于 DRAM 量產(chǎn)工藝。
消息人士稱，SK Hynix 量產(chǎn)的 1c DRAM 上有五個(gè)極紫外 (EUV) 層，其中一層將使用 MOR 繪制。他還補(bǔ)充說，“不僅 SK 海力士，三星電子也將追求這類無機(jī) PR 材料。”
查詢公開資料獲悉，Inpria 是日本化學(xué)公司 JSR 的子公司，也是無機(jī)光刻膠領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者；而 MOR 則被認(rèn)為是目前用于先進(jìn)芯片光刻的化學(xué)放大光刻膠（CAR）的下一代產(chǎn)品。
此外，該公司自 2022 年以來就一直與 SK Hynix 合作進(jìn)行 MOR 研究。SK Hynix 此前曾表示，使用 Sn（基）氧化物光刻膠將有助于提高下一代 DRAM 的性能并降低成本。
TheElec 報(bào)道還指出，三星電子也在考慮將 MOR 應(yīng)用于 1c DRAM，目前三星電子在 1c DRAM 上應(yīng)用了 6 至 7 個(gè) EUV 層，而美光則只應(yīng)用了 1 層。
本站內(nèi)容除特別聲明的原創(chuàng)文章之外，轉(zhuǎn)載內(nèi)容只為傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)站贊同其觀點(diǎn)。轉(zhuǎn)載的所有的文章、圖片、音/視頻文件等資料的版權(quán)歸版權(quán)所有權(quán)人所有。本站采用的非本站原創(chuàng)文章及圖片等內(nèi)容無法一一聯(lián)系確認(rèn)版權(quán)者。如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)和其它問題，請(qǐng)及時(shí)通過電子郵件或電話通知我們，以便迅速采取適當(dāng)措施，避免給雙方造成不必要的經(jīng)濟(jì)損失。聯(lián)系電話：010-82306118；郵箱：aet@chinaaet.com。