近日，有韓媒報道，中芯國際董事長周子學日前在韓國訪問時表示，ASML與中芯國際之間的光刻機供應問題已解決。對此，中芯國際發(fā)布官方聲明表示，韓媒發(fā)布涉EUV報道違背事實，純屬捏造。

圖片源自中芯國際

中芯國際官方聲明：

近日，《BusinessKorea》等韓國媒體發(fā)布報道，“引用”中芯國際董事長周子學博士在韓國參會時對EUV（極紫外光刻機）事宜的表態(tài)。中芯國際對此鄭重聲明，此類報道違背事實，純屬捏造。周董事長僅參加了本月“中韓工商領袖和前高官對話”內(nèi)部會議環(huán)節(jié)，期間并未接受任何媒體采訪，在發(fā)言中也從未提及EUV事宜。

對于杜撰及傳播謠言的媒體和個人，公司表示強烈譴責，將保留訴諸法律追責的權利。

特此聲明。

中芯國際集成電路制造有限公司

2019年12月9日

ASML斷供中芯國際問題難解

就在上個月，業(yè)界就收到了荷蘭半導體設備供應商ASML將暫時停止向中芯國際供應EUV（極紫外光刻機）的消息。

作為世界上最重要的半導體供應商，ASML生產(chǎn)的光刻機是芯片制造過程中最重要的設備之一，目前全世界主要的光刻機均為ASML獨家研發(fā)，在市場上無法找到其他替代品。

光刻機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，它的作用是掃描曝光芯片晶圓，刻蝕集成電路。光刻機精度越高，就能生產(chǎn)出尺寸更小、功能更強大的芯片。而EUV（極紫外光刻機），則是以波長為10－14納米的極紫外光作為光源的光刻技術，對材料進行加工的高級光刻機。尤其是尺寸小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV（極紫外光刻機）生產(chǎn)。可以說，極紫外線光刻機是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。

在業(yè)界爆出ASML斷供中芯國際一事時，有消息稱是因為光刻機牽涉到全球最高端工藝芯片技術的生產(chǎn)，因此需要拿到政府發(fā)放的出口執(zhí)照和核準，而公司在2019年7月之前就已經(jīng)提出申請，但出口執(zhí)照一直未發(fā)放從而被動的導致無法將EUV（極紫外光刻機）準時交付給中芯國際，同時還強調(diào)無法確定具體的交付時稱。

對此，業(yè)內(nèi)有消息人士透露：“ASML是為了避免因供應最先端設備給中國、因而刺激到美國，因此決定暫時中止交貨”。消息人士還補充表示：“但與此同時，ASML不想讓中國客戶感到不安，因為那里是其增長最快的市場。”

高端芯片研發(fā)被“卡脖子”

斷供一事對中芯國際來說無疑是損失巨大。早在2018年中芯國際就宣布以1．2億美元向ASML訂購了EUV（極紫外光刻機），為其研發(fā)7nm以下工藝做準備，原本預計2019年交付，如今接近年底也遲遲未見光刻機的蹤影。

據(jù)悉，目前中芯國際以9nm的量產(chǎn)為主，大部分集中在中低端芯片領域。隨著高端芯片技術的崛起，芯片尺寸逐漸進入7nm時代。在7nm 及以下制程中，EUV光刻機是最重要的生產(chǎn)設備。ASML 延遲交付EUV光刻機，將對中芯國際先進制程的研發(fā)造成重大影響。

目前，全球知名半導體廠商中，三星、臺積電、格羅方德、聯(lián)電都已經(jīng)從ASML購買到了光刻機設備。在芯片研發(fā)工藝上，臺積電的7nm工藝已經(jīng)成熟且被許多廠商采用，5nm工藝也進入量產(chǎn)階段，最快將于2020年第一季度量產(chǎn)，臺積電還開始了3nm工藝的研發(fā)進程，甚至計劃在2024年實現(xiàn)2nm工藝的量產(chǎn)。而三星的進展同樣迅速，不僅開始了7nm芯片的量產(chǎn)，在近日曝光的三星芯片代工計劃中，5nm／4nm工藝芯片都將接踵而至。斷供事件會嚴重影響中芯國際高端芯片進程，追趕三星臺積電的難度也會加大。

在ASML去年的營收占比中，中韓兩國的市場份額超過一半。中國市場占據(jù)了ASML將近20％的營收，僅次于韓國市場的35％，美國市場占據(jù)了ASML營收的16％。隨著國內(nèi)芯片廠商群體的日益壯大，ASML定然也不想失去這龐大的中國市場。如今，雖然我國芯片研發(fā)制造產(chǎn)業(yè)發(fā)展雖快，但與世界尖端還有著一定的距離，尤其是在核心設備環(huán)節(jié)任重而道遠。