ASML正在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE：5000系列，最快會于2021年面世。
據(jù)IT之家了解，現(xiàn)在ASML銷售的光刻機主要為NXE：3400B和改進型的NXE：3400C，結(jié)構(gòu)上相似。差別在于NXE：3400C采用模塊化設(shè)計，將平均維護時間從48小時縮短到8－10小時；NXE：3400C的產(chǎn)量也從125WPH提升到了175WPH。這兩款EUV光刻機屬于第一代，物鏡系統(tǒng)的NA（數(shù)值孔徑）為0．33。
在光刻機的分辨率公式中，NA數(shù)字越大，代表光刻機精度更高。ASML現(xiàn)在在研發(fā)新一代EUV光刻機EXE：5000系列，NA為0．55。主要合作伙伴有Carl Zeiss AG和IMEC比利時微電子中心。
據(jù)悉，EXE：5000系列EUV光刻機主要面向3nm時代，目前臺積電和三星的制程工藝路線圖已經(jīng)到了3nm，要想讓技術(shù)盡快落地到實際，EXE：5000系列EUV光刻機的研發(fā)極為重要。
據(jù)ASML的爆料，EXE：5000系列EUV光刻機樣機最快會于2021年面世，最快可能會于2023年或者2024年上市。
光刻機是目前世界上最復雜的精密設(shè)備之一，芯片制造的核心設(shè)備之一，除了可以用來生產(chǎn)芯片，還有用于封裝的光刻機、LED制造領(lǐng)域的投影光刻機。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機的公司——荷蘭ASML公司。去年共銷售26臺EUV光刻機，用于臺積電、三星的7nm和5nm工藝制造。
《兵進光刻機，中國芯片血勇突圍戰(zhàn)》
作者：遠洋
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