而據(jù)我們所知，在過去的五年中，Arm Research團隊一直在努力開發(fā)基于相關(guān)電子材料（CeRAM）的新型非易失性存儲器。為了集中精力在半導(dǎo)體市場上，它將把其所有相關(guān)IP轉(zhuǎn)移給Arm分拆公司Cerfe Labs，而Arm也獲得了該公司的部分股權(quán)。

　　作為交易的一部分，Arm將把其超過150個專利家族的完整CeRAM IP產(chǎn)品組合轉(zhuǎn)讓給Cerfe Labs，這將成為相關(guān)CeRAM技術(shù)路線圖的基礎(chǔ)。Cerfe Labs將依次致力于開發(fā)和許可基于CeRAM和鐵電晶體管（FeFET）的新型非易失性存儲器。

　　什么是CeRAM

　　在過去的十年中，業(yè)界一直在尋求開發(fā)電阻式RAM（RRAM），因為其功耗低且訪問延遲小。在這一發(fā)展過程中，研究人員轉(zhuǎn)向使用諸如NiO之類的過渡金屬氧化物（Transition metal oxide ：TMO），其中的“filaments”在較高的“electroforming”電壓和電流下生長。

　　存儲方案涉及電極之間這些filament的連接和斷開。

　　另一方面，CeRAM是一種使用TMO且沒有filament和electroforming的電阻式存儲器。該技術(shù)利用了TMO具有不完整的3D或4D原子殼（atomic shells）的事實，這些殼經(jīng)歷了量子相變，涉及由電場或電壓引起的化合價變化。

　　在實際生長中，我們可以看到，通過采用適當?shù)膿诫s技術(shù)清除NiO，可以獲得導(dǎo)電的NiO，該導(dǎo)電的NiO可以在其電絕緣狀態(tài)和導(dǎo)電狀態(tài)之間進行非常快速，可逆的非易失性體轉(zhuǎn)變。過去，這些轉(zhuǎn)換僅在高壓和高溫下才有可能，但現(xiàn)在可以在室溫下以低開關(guān)電壓和低電流實現(xiàn)。操作的關(guān)鍵是可逆的金屬到絕緣體的過渡（MIT），其根源于Nevill Mott爵士和John Hubbard的工作。

　　CeRAM操作的一個獨特功能是其單點氧化和還原（意味著電子的損失和增益）。對于CeRAM的活性材料，氧化和還原是通過量子隧穿效應(yīng)在相同的鎳離子位點發(fā)生的。從那時起，對正在發(fā)生的事情的解釋變得極為復(fù)雜，并且依賴于那些用于處理單晶電子產(chǎn)品的效果所不熟悉的效果。

　　對于NiO，需要0.6 V的電壓來寫入絕緣狀態(tài)，而需要1.2 V的電壓來寫入導(dǎo)電狀態(tài)。對于RRAM來說，這是一種很有前途的技術(shù)，因為它提供高達10飛秒的讀取速度和0.1 V至0.2V的讀取電壓，使其成為一種非常快速且低功耗的技術(shù)。

　　什么是FeFET

　　FeFET是一種場效應(yīng)晶體管，可以用作非易失性存儲器的一種形式。

　　該晶體管本身的布局與標準MOSFET非常相似：它是具有柵極，漏極和源極的三端MOS器件。不同之處在于，F(xiàn)eFET包括位于器件的柵極和源極-漏極導(dǎo)電區(qū)之間的鐵電材料。

　　通過向器件的柵極施加電場，它會在鐵電材料中產(chǎn)生永久性的電場極化。這樣的結(jié)果是即使斷電，設(shè)備也可以保持狀態(tài)并保持狀態(tài)。

　　它為非易失性存儲器提供了一個有希望的選擇，因為它與MOSFET的相似性使其易于理解并與許多現(xiàn)有CMOS技術(shù)兼容。