智通財經APP獲悉，由于KrF光刻膠產能受限以及全球晶圓廠積極擴產等原因，傳日本信越化學近日已經向中國大陸多家晶圓廠限制供貨，使得國內多家晶圓廠將會面臨KrF光刻膠缺貨的處境。

半導體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長以提高極限分辨率，世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別，光刻膠的波長由紫外寬譜逐步至g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm），以及最先進的EUV（＜13．5nm）線水平。目前，國內主要的半導體光刻膠供應商有北京科華、南大光電、晶瑞股份、上海新陽等公司。

面板光刻膠按光刻膠特性主要分為正型和負型兩類光刻膠。負型光刻膠在曝光區(qū)域發(fā)生交聯，難溶于顯影液，光刻膠得以保留，非曝光區(qū)域易溶于顯影液；而正型光刻膠則相反，曝光區(qū)域容易溶解于顯影液，非曝光區(qū)不易溶于顯影液。國內企業(yè)在面板光刻膠方面有較大突破，北旭、飛凱材料、欣奕華、博硯、雅克科技等均已放量出貨。

隨著顯示面板和晶圓產能的擴張，全球光刻膠需求量也在不斷增加。以面板和半導體正型光刻膠市場需求為例，CINNO Research發(fā)布報告稱，至2025年全球面板及半導體正型光刻膠市場規(guī)模將實現年均復合增長率3．2％至57億美金。

圖示：2016－2025年全球顯示及半導體用正型光刻膠材料市場規(guī)模預測，來源：CINNO Research

從光刻膠市場競爭格局來看，國內光刻膠材料在面板顯示和半導體領域已經取得一定實績，但仍然存在技術相對薄弱，國產化率較低等問題，國內供應鏈上下游仍需努力協作，提高產品開發(fā)能力，提升產品品質，加速推進國產化進程，解決供應鏈安全問題。