10月15日，“中國光谷”通過微信公眾號發布消息稱，武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻制造新局面。

據介紹，太紫微公司的這款光刻膠產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于被業內稱之為“妖膠”的國外同系列產品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。

眾所周知，光刻膠是半導體芯片制造過程中所必須的關鍵材料。由于目前光刻機曝光光源一共有六種，分別是紫外全譜（300～450nm）、 G 線（436nm）、 I 線（365nm）、深紫外（DUV，包括 248nm 和 193nm）和極紫外（EUV），相對應于各曝光波長的光刻膠也應運而生，對應分別為，g 線光刻膠、i 線光刻膠、KrF光刻膠、 ArF光刻膠、EUV光刻膠。

從市場占有率來看，全球光刻膠市場主要被日本和美國廠商占據。根據 TOK 和 Fujifilm  2020年的數據顯示：

g/i ：東京應化占比 25.2%，陶氏杜邦占比 19.1%，住友化學占比 15.7%；

KrF：東京應化占比 31.4%，信越化學占比 21.9%，合成橡膠占比 20.9%，陶氏杜邦占比 10.9%；

ArF：合成橡膠（JSR）占比24.9%，信越化學占比 21.8%，住友化學占比 16.8%，東京應化占比15.8%；

EUV：東京應化占比51.8%，另外合成橡膠（JSR）也有不小的份額。

雖然近年來，隨著國產半導體制造業務發展，國產光刻膠廠商也取得了一些突破，但是在中高端光刻膠市場仍是相對較弱。具體來說，低端的中g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，而高端的ArF光刻膠也是近兩年才有所突破，比如彤程新材、南大光電的ArF光刻膠都已有對外供貨。至于更高端的EUV光刻膠，由于美國的阻撓，國內目前無法進口EUV光刻機，因此國產EUV光刻膠的開發自然也無從談起。

資料顯示，太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。團隊立足于關鍵光刻膠底層技術研發，在電子化學品領域深耕二十余載。

企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示：“以原材料的開發為起點，最終獲得具有自主知識產權的配方技術，這只是個開始，我們團隊還會發展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內相關產業帶來更多驚喜。”

△太紫微核心研發團隊成員（前排左一為朱明強教授）

太紫微公司致力于半導體專用高端電子化學品材料的開發，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。

“無論是從國內半導體產業崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規律展望未來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻領域還會有很多新技術、新企業破繭成蝶，但擁有科技創新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問表示。