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麻省理工聯合芝加哥大學研發7納米工藝

2017-03-28

近日,美國麻省理工學院(MIT)和芝加哥大學的研究人員開發了一種新技術,可以讓芯片按照預定的設計和結構自行組裝。

這項技術有望進一步推進有著50年歷史的“摩爾定律”,從而繼續壓縮計算設備的成本。該研究項目的重點是在芯片上自行組裝線路,而這恰恰是芯片制造行業最大的挑戰之一。

有了這種技術,就不必像現有的方式那樣在硅片上蝕刻細微特征,而是可以利用名為嵌段共聚物(block copolymer)的材料進行擴張,并自行組裝成預定的設計和結構。

MIT化學工程系教授卡倫·格里森(Karen Gleason)表示,這種自組裝技術需要向現有的芯片生產技術中增加一個步驟。

現在的生產技術要利用長波光在硅晶圓上燒制出電路形態。目前的芯片需要采用10納米工藝,但很難使用同樣的波長填滿更小的晶體管。EUV光刻技術有望降低波長,在芯片上蝕刻出更細微的特征。這種技術有望實現7納米工藝,但即便已經投資了數十億美元研發資金,這種技術依然很難部署。

MIT認為,他們的新技術很容易融入現有生產技術,無需增加太多復雜性。該技術可以應用于7納米生產工藝,有關這項技術的論文已于本周發表在《Nature Nanotechnology》期刊上。


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