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英偉達(dá)將降低GPU挖礦效率，同時(shí)發(fā)布以太坊開發(fā)專用芯片“CMP”
發(fā)表于：2021/2/23 13:34:07
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鼎龍股份：擬新建集成電路CMP用拋光墊項(xiàng)目及集成電路制造清洗液項(xiàng)目
發(fā)表于：2021/1/17 18:07:30
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芯思想 | 電科裝備首臺(tái)CMP進(jìn)入中芯國(guó)際大生產(chǎn)線，國(guó)產(chǎn)裝備開始新征程
發(fā)表于：2017/11/27 18:37:03
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陶氏發(fā)表 OPTIPLANE? 先進(jìn)半導(dǎo)體制造化學(xué)機(jī)械研磨液(CMP)平臺(tái)
發(fā)表于：2016/7/29 12:19:00
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半導(dǎo)體、電子設(shè)備 迎來最佳發(fā)展機(jī)遇 薦7股
發(fā)表于：2016/6/6 5:00:00
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Entegris 發(fā)布針對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體制造的新型化學(xué)機(jī)械研磨后清洗解決方案
發(fā)表于：2016/1/29 13:38:00
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摩爾定律聲聲喚 CMP制程再精進(jìn)
發(fā)表于：2011/9/26 12:29:48
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意法半導(dǎo)體通過CMP提供28納米CMOS制程
發(fā)表于：2011/6/29 0:00:00
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